枚葉式原子層レベル成膜装置

アイクストロン社のALD／AVD装置には、新たに開発されたALDプロセス向け反応室と独自開発の気化器(Trijet® )を搭載しております。この気化器は、インジェクション方式の採用により、従来方式の気化器に比べ、気化効率を大幅に改善するとともに、気化の難しい低蒸気圧原料にも対応しており、今後必要となる新規材料へ幅広く対応しております。一方、反応室は、構造及び容積をALDプロセス向けに最適化したことにより、従来ALD技術の欠点であった成膜速度を大幅に改善しております。

更に、特定のアプリケーション向けとして枚葉式に加え拡張版としてスループットを高めたミニバッチタイプも準備しています。