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過去のHOT NEWS一覧
- 2006年09月
- エム・エフエスアイ株式会社創立15周年のお知らせ
- 2006年02月
- 2006年（第12回）日経BP広告賞『日経マイクロデバイス広告賞』を受賞
- 2006年01月
- ホームページをリニューアルいたしました
- 2005年12月
- 最新の半導体洗浄技術動向 (PDF 215KB)
- 2005年12月
- 65nm以降の高集積デバイス製造に対応する洗浄技術 (PDF 769KB)
- 2005年11月
- 三つの装置技術を軸に65nm以降のソリューション展開 ～ダメージレスやクロスコンタミ制御に威力、ドライプロセスも用意 (PDF 2110KB)
- 2005年08月
- 半導体製造工程における洗浄技術 (PDF 277KB)
- 2005年04月
- mFSI装置戦略 ～アプリ重視戦略が真価を発揮。次世代プロセスに柔軟に対応 (PDF 30KB)
- 2005年02月
- 最先端プロセスに対応した新しい洗浄装置 (PDF 856KB)
- 2004年11月
- 45nmに向けたプロセス開発を促進 (PDF 964KB)
- 2004年09月
- 省スペース多機能ウェットステーション MAGELLAN® (PDF 291KB)
- 2004年08月
- FSI International 社、VLSI リサーチ社 カスタマー満足度調査第6位を獲得
- 2004年03月
- 極低温エアロゾル洗浄装置「ANTARES CX」国内１号機を受注！！
- 2003年04月
- 日曹エンジニアリング(株) 半導体製造装置部門の事業取得基本合意
- 2002年07月
- FSI International 社、VLSI リサーチ社 カスタマー満足度調査 第二位を獲得
- 2001年09月
- エム・エフエスアイ株式会社 会社設立10周年
- 2001年08月
- 米国大手デバイスメーカーがZETA®をBEOL用途装置に採用
- 2001年08月
- 300mmウェハ対応ZETA®のアジアでの納入実績拡大
- 2001年06月
- 米国大手デバイスメーカーからANTARES™ 300mm装置受注
- 2001年04月
- 米国大手デバイスメーカーからの歩留り向上ツール極低温エアロゾル装置の追加受注を発表
- 2001年02月
- 大手ヨーロッパ半導体デバイスメーカーが、Cu/Low-k BEOLプロセスにANTARES™ を採用
- 2001年01月
- FSI社製ANTARES™ 洗浄システムが、大手デバイスメーカーCu/Low-kバック・エンド・プロセスへ適用開始
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2008年1月1日をもってm・FSIからアプリシアテクノロジー株式会社に社名を変更いたしました。
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