2006年11月

弊社では、来る2006年12月6日から千葉 幕張メッセで開催される世界最大の半導体製造装置・部品・材料の国際エキシビションSEMICON Japan 2006(12/6(水)～12/8(金)主催：SEMIジャパン)に本年も出展致します。
本年は、"チャレンジ"をテーマに掲げ、45nm nodeへのチャレンジ、新プロセス・新アプリケーションへのチャレンジなど、弊社ブースではm・FSIが取り組むチャレンジの数々を所狭しと御紹介致します。
皆様のご来場、心よりお待ち申し上げております。

弊社ブース No ： ホール 4A-505

本年の見どころと展示製品

洗浄・表面処理システム

FSIプロダクツ事業部

45nm以降の洗浄技術の壁へのチャレンジ。
今年は、新たにリリースしたバッチ式スプレー洗浄システムZETA®によるアッシングレス高ドーズレジスト剥離ViPR™プロセス、45nm nodeの先端デバイス構造に対応する極低温エアロゾル洗浄
システムANTARES® CXなどをご紹介致します。

200/300mm対応バッチ式スプレー洗浄システム	ZETA® 200、ZETA® 300
バッチ式スプレー洗浄システム	MERCURY® MP
極低温エアロゾル洗浄システム	ANTARES® CX
省スペース多機能ウエットステーション	MAGELLAN®

ハーモニクス事業部

独自技術で最適なソリューションをご提供。
弊社独自技術を搭載した連続式燐酸再生･エッチング制御装置NISON® VESPER他、ユーザーニーズにフレキシブルに対応するラインナップをご紹介致します。

枚葉スピン両面洗浄システム	CENOTE®
連続式リン酸再生・エッチング制御装置	NISON® VESPER
バッチ式浸漬洗浄・エッチングシステム	CIMANTO®
燐酸高温循環装置	NISON® 1800
燐酸再生装置	PSYRION®

ケミカルマネジメント事業部

ケミカルマネジメントシステム

最先端CMPに対応したスラリー供給技術を御提案致します。

スラリー希釈･供給システム	iSIS™ 1200J、MX2000 iSIS™1100、P4400、VP412
酸化剤自動滴定・添加システム	AR200
流量制御システム	LiquiSys™

SEMICON Japan 2006 開催概要 /SEMI ジャパン HP

http://wps2a.semi.org/wps/portal/_pagr/127/_pa.127/418

本件のお問合せにつきましては 企画部 業務企画グループ 松浦 江理子 まで
TEL: 03-5309-8425 (直)　　FAX: 03-5309-8401
E-mail：eriko_matsuura@mfsi.co.jp

※ m・FSIは、BOCエドワーズ社ケミカルマネジメント製品の一手販売店です。
(BOCEブース: Hall 4A-501)

<携帯音楽プレーヤープレゼントキャンペーン・クロスワードパズル回答のお知らせ>

SEMICON JAPAN 2006では、たくさんのご応募をありがとうございました。

【クロスワードパズルの答え】
[エ][ル][エ][ス][ア][イ]（LSI）