SEMICON Japan 2004 出展のご案内

2004年11月

弊社では、来る2004年12月1日から千葉幕張メッセで開催される世界最大の半導体製造装置・部品・材料の国際エキシビションSEMICON Japan 2004(12月1日～3日主催：SEMIジャパン)に本年も出展いたします。
本年は、特に65nmに対応するバッチ式スプレー洗浄システムZETARや枚葉式エアロゾル洗浄システムANTARESRCXなど弊社主力の洗浄システム等益々充実の洗浄・表面処理システム・ラインナップの他、CMPスラリー希釈・供給管理システム等の装置をご紹介いたします。
本年の主な出展内容は、以下のとおりです。最新のアプリケーションとソリューションをご用意してお待ち申し上げておりますので、皆様のご来場、心よりお待ち申し上げております。

1．洗浄・表面処理システム

65nm向け先端ディファクトスタンダードシステムから、ニッチマーケットにも対応するユニークな
カスタマイズシステムまで！幅広い商品ラインナップでクリエイティブ・ソリューションをご提供します。

200mm/300mm対応単槽式スプレー洗浄システム	ZETA® 200、ZETA® 300
極低温エアロゾル洗浄システム	ANTARES® CX
小型多機能ウエットステーション	MAGELLAN®
枚葉式無水HFベーパー洗浄システム	EXCALIBUR® 2000
スプレー式ウエット洗浄システム＆カセットハンドリングシステム	MERCURY® ＆ CHS
枚葉スピン両面洗浄システム	CENOTE®
窒化膜エッチング用ウエットステーション	NISON® VESPER機能搭載 WET STATION
燐酸高温循環システム	NISON® 1800
燐酸再生システム	PSYRION™／Stelna®
ウエハ薄膜化システムキャリア洗浄システム　他	BEST

2．ケミカルマネジメントシステム

CMPプロセス向けスラリー希釈供給管理システムのご提案、既存プロセスから最先端プロセス
までをトータルサポートいたします。

CMPスラリー希釈・供給システム	iSIS™ 1200J、MX2000、iSIS™ 1100、P4400、VP412
酸化剤自動滴定・添加システム	AR200
流量制御システム	LiquiSys™

弊社ブースNo：ホール4-A701

SEMICON Japan 2004開催概要/SEMIジャパン

http://wps2a.semi.org/wps/portal/_pagr/127/_pa.127/419
本件のお問合せにつきましては企画部業務企画Gr 松浦江理子まで
TEL: 03-5309-8425 (直) 03-5309-8400
E-mail：eriko_matsuura@mfsi.co.jp
※ m・FSIは、BOCエドワーズ社Chemical Management Division製品の一手販売店です。
(BOCEブース: Hall 4 A-801)