SEMICON Japan 2003 出展のご案内

2003年11月

弊社では、来る2003年12月3日から千葉幕張メッセで開催される世界最大の半導体製造装置・部品・材料の国際エキシビションSEMICON Japan 2003(12月3日～5日主催：SEMIジャパン)に本年も出展いたします。

本年は、今回新たに加わりましたハーモニクス商品群、300mm/65nmに対応する当社主力の洗浄システム等、益々充実した洗浄・表面処理システム・ラインナップの他、 CMPスラリー希釈・供給管理システム等の装置をご紹介いたします。

本年の主な出展内容は、以下の通りです。最新のアプリケーションとソリューションをご用意してお待ち申し上げておりますので、皆様のご来場、心よりお待ち申し上げております。

洗浄・表面処理システム

200mm/300mm対応バッチ式スプレー洗浄システム	ZETA® 200、ZETA® 300
枚葉式無水HFベーパー洗浄システム	EXCALIBUR® 2000
極低温エアロゾル洗浄システム	ANTARES® CX
スプレー式ウエット洗浄システム＆カセットハンドリングシステム	MERCURY®
小型多機能ウエットステーション	MAGELLAN®
枚葉スピン両面洗浄システム	CENOTE®
窒化膜エッチング用ウエットステーション	NISON® VESPER機能搭載 WET STATION
燐酸高温循環システム	NISON® 1800
燐酸再生システム	Stelna®
ウエハ薄膜化システムキャリア洗浄システム　他	BEST