2002年12月
弊社では、来る2002年12月4日から千葉 幕張メッセで開催される世界最大の半導体製造装置・部品・材料の国際エキシビションSEMICON Japan 2002(12月4日~6日 主催:SEMIジャパン)に本年も出展いたします。
本年の主な出展内容は、以下の通りです。皆様のご来場、心よりお待ち申し上げております。
| スプレー式ワンパス洗浄装置 | ZETA®/MERCURY® |
| 極低温アルゴンエアロゾルシステム | ANTARES® CX |
| 小型多機能ウエットステーション | MAGELLAN® |
| 多段式枚葉スピン洗浄システム | ASTRAIA™ |
| コータ&デベロッパシステム | POLARIS® |
| CMPスラリー混合・供給システム | iSIS™ 1200 |
| 過酸化水素水自動滴定システム | AR200 |
| 粒度分布モニタリングシステム | iSPEQ |
弊社ブースNo:ホール4-A701
SEMICON Japan 2002/SEMIジャパン
http://events.semi.org/semiconjapan/V33/index.cvn
2008年1月1日をもってm・FSIからアプリシアテクノロジー株式会社に社名を変更いたしました。
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