2001年10月

弊社は、2001年12月5日から幕張メッセで開催されるSEMICON Japan 2001（2001年12月5日～7日 主催：SEMIジャパン）に本年も出展いたします。 本年の主な出展内容は、以下の通りです。

1. 300mmウェハ対応スプレー式洗浄装置ZETA®300
2. 極低温エアロゾル洗浄装置 ANTARES™
3. 300mmウェハ対応省フットプリント バッチ式ウェット洗浄システム MAGELLAN™
4. 新開発 枚葉式ウェット洗浄システム Sirius™
5. スラリー希釈・供給装置 iSIS1200 など弊社ブースの展示は、幕張メッセ ホール4-A703となっております。