2008年7月

アプリシアテクノロジー株式会社(本社: 東京都中野区、以下アプリシアテクノロジー)では、2008年 7月11日、米国AIXTRON Inc.(カリフォルニア州サニーベール市)と販売に関する契約を締結いたしました。

これにより今後、アプリシアテクノロジーは、シリコン半導体市場や薄膜磁気ヘッド（Thin Film Head）向けにAIXTRON Inc.社が取り扱っているCVD（Chemical Vapor Deposition）、AVD（Atomic Vapor Deposition)、ALD（Atomic Layer Deposition）各装置の日本での業務提携を結び、国内ユーザー殿に装置販売や装置立上げ・メンテナンスサービスまで総合的なサービスを展開して参ります。

また、この度、SEMICON West 2008にてAIXTRON Inc.社より新製品“QXP-8300”のリリースを行いました。本装置は、従来のALD装置に比べて飛躍的にスループットを向上させており、高い品質と生産性の向上に寄与いたします。今後、日本国内ユーザーに対しても、随時展開を進めていく予定です。

以上

AIXTRON Inc.:

独Aixtron社のグループ子会社であるAixtron Inc.社（米国カリフォルニア州）は、1982年創立のGenus社を前身とし、成膜装置のリーディングサプライヤーとして半導体、および電子部品の分野において、欠かせない技術を提供しています。これらの技術は、半導体デバイスとして、あるいは電子デバイスとして、ディスプレイ、コンピューター、ワイヤレス/モバイル通信技術、ストレージデバイス等の各分野において応用され、ワールドワイドに幅広いユーザーを獲得しています。特に、配線材料用CVD装置は、これまで全世界で400台以上の販売実績を誇り、その分野でのトップシェアを獲得しました。また、最近では、Atomic Layer Deposition (ALD)、および、Atomic Vapor Deposition (AVD®) といった先端技術を有する装置を開発し、最先端のロジックデバイス、メモリーデバイス等のLSI製造に要求される高度な薄膜技術とその製造装置を提供しており、後の半導体技術の進展に大きく貢献していくことが期待されています。

Apprecia Technology Inc.:

アプリシアテクノロジー株式会社　(旧　エム・エフエスアイ株式会社/m・FSI LTD.)は、1991年9月１日に設立され、以来半導体ウエハ表面処理装置事業とCMPスラリー供給装置事業を中心に、国内半導体デバイスメーカーに対して最適な製造プロセスを提供することを目指して事業を展開している製造装置メーカーです。世界では1,200台、国内160台の実績を誇るFSI社製スプレー洗浄装置や、国内トップシェアのスラリー供給装置を取り扱う他、国内開発・国内製造の装置や技術を海外デバイスメーカーに輸出・販売、技術ライセンスの供与を行うなど、事業展開の幅も広げつつあります。

岡山技術センターには、クラス10のクリーンルームをはじめとする最新の研究設備を有し、半導体デバイスメーカーや薬品・材料メーカーなどと共同で半導体製造プロセス開発を行なっています。

アプリシアテクノロジー株式会社では、「人と技術の架け橋になること」 「感謝(Appreciation)と調和(Harmony)」を経営理念としています。お客さまとともに、価値ある技術を創造し、確かな成果を生む、卓越性をもったプロフェッショナルな技術者集団を目指して、日々業務に取組んでいます。

また、昨年8月、MEBO(マネジメント・エンプロイー・バイアウト)により株主変更・業態変革の実施による 新たな経営をスタートさせ、それに伴い社名も2008年1月からアプリシアテクノロジー株式会社(Apprecia Technology Inc.)に変更致しました。