2006年9月

エム・エフエスアイは、2006年9月1日をもちまして創立15周年を迎えました。創立15周年を迎えるにあたり、多くの方々からの暖かいご支援によるものと厚く御礼申し上げます。

エム・エフエスアイは1991年9月1日、半導体ウェハの洗浄・表面処理分野でグローバル規模のビジネス展開を図る米国FSI International社、先端のオゾン技術や電気化学技術を持つクロリンエンジニアズ、そして三井物産、この3社が持つ一流の技術力とビジネスノウハウを一つに結集して設立されました。設立当初は、半導体ウェハ洗浄・表面処理装置の製造・販売からスタート。いまや、半導体ウェハ洗浄・表面処理装置のみならず、CMPスラリー希釈・供給装置^※などの製造・販売も併せて事業展開を行っております。また、1999年には、岡山技術センターを設立。この技術センター内にあるクラス10のクリーンルーム内での技術開発活動は、国内外の半導体デバイスメーカーや薬品供給メーカーとの共同開発拠点として、多くの顧客からご支持を頂いております。

この第15会計年度（2005年7月～2006年6月期）では、好不調の波の激しい半導体関連業界の中でも13期連続黒字達成いたしました。また、創立15周年の今年は、従業員による社会貢献活動の一環として、東京都内の公園や岡山県内の河川などの清掃活動を行いました。

エム・エフエスアイは、これからも、お客様おひとりおひとりの声にお応えすべく、新たな技術革新のオンリーワンパートナーとして現状にとどまることなく、創造的に、そしてひたむきに努力し続けます。

以上

※エム・エフエスアイは、米国BOC EDWARDS社のChemical Management事業（CMPスラリー希釈・供給装置事業）の一手販売店です。