2001年9月

エム・エフエスアイは2001年9月に会社設立10周年を迎えました。

1991年に米FSI International社と、先端オゾン技術や電解技術を持つクロリンエンジニアズ株式会社の技術力を背景に、三井物産株式会社のバックアップで設立され、会社設立当初からTechnology Oriented企業を目指し発展してまいりました。

設立当初は、半導体ウェハ洗浄・表面処理装置の製造・販売からスタート。いまや、半導体ウェハ洗浄・表面処理装置のみならず、CMPスラリー希釈・供給装置などの製造・販売も併せて事業展開を行っております。

この間、設立以来、力を注いできた技術本位の事業展開、充実した製品ラインナップの提供、ユーザーや薬品メーカーなどとの共同作業を重視した岡山技術センターの開設などが大きく実を結びました。現在、事業規模は、第10会計年度（2000年7月～2001年6月期）で売上高約55億円、従業員約100名とまで発展しております。

また、会社設立10周年を迎えるにあたって、当社では祝賀事業の一環として、富士山や鳥取県大山の環境保護活動も行っております。

今後とも、半導体製造への技術発展のみならず大きく社会への貢献できる企業へと発展してまいります。