2001年4月

FFSIは、米国大手デバイスメーカーからANTARES™ の追加受注があったことを発表しました。このシステムは、200mm対応装置で、BEOLでのCu/Low-kプロセスにおける歩留り向上用途に採用されます。

このANTARES™ は、米FSI社特許保有のCryoKinetic技術（極低温エアロゾル技術）を用いた、Low-k膜の材質特性を変化・変質させずにウェハ表面をクリーンにするドライ洗浄装置で、生産ライン全体も含めて欠陥削減を実現することもできる装置です。